Описание пленки радиографической FUJIFILM IX-100
Пленка с очень мелким зерном и высокой контрастностью ASTM класса II подходит для исследования легких металлов с помощью слабоактивных источников излучения и для исследования толстых, плотных образцов с помощью источников рентгеновского или гамма-излучения с высоким напряжением в кВ. 
Продемонстрирован широкий диапазон экспозиции в областях с высокой контрастностью объекта. Хотя пленку IX100 обычно используют вместе с прямым экспонированием или свинцовыми экранами, она пригодна для работы с флуоресцентными или флуорометаллическими экранами.
Технические характеристики промышленной пленки FUJIFILM IX100
| Относительная чувствительность*: | 100KV с прямым экспонированием 100 200KV со свинцом 100 Ir-192 со свинцом 100 Co-60 со свинцом 100 | 
| Класс пленки*: | ASTM E1815-96 II ISO 11699-1 C5 JIS K7627 T3 | 
| Листы*: | без прокладок | 
| Возможные варианты упаковки*: | Листы NIF, IL, EPAK, EPPB Рулоны NIF, EPAK, EPPB | 
| * Примеча́ние | Чувствительность дана в сравнении с типом IX100 (стандарт 100) | 
| Применение: | Сварные швы, отливки, строительство и обслуживание самолетов, проверка артиллерии | 
| Расходные материалы: | Химия: проявители AUDEL, MAN-X DEV, фиксажи AUFIX, M-Fix. | 
| Безопасность: | изделие не является вредным (опасным) для здоровья потребителей, а также безвредно для окружающей среды | 
| Прочие аксессуары: | IX-100 предлагается со свинцовыми экранами и без них | 
 
		
			 
		
	 
								 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
												 
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
  
 